电子半导体行业用纯水设备

一、产品概述

沃特伊兰电子半导体行业用纯水设备专为芯片制造、集成电路封装、液晶面板生产等高精度工艺设计，采用​“预处理+二级反渗透（RO）+电去离子（EDI）+终端抛光系统”​四重净化工艺，产水电阻率达18.2MΩ·cm以上，全面满足中国电子级超纯水最高标准（EW-I级，GB/T 11446.1-2013）及美国ASTM D5127 Type E-1.2级标准。系统通过99.9%离子去除率和0.1μm微粒截留技术，精准消除半导体生产中的金属离子、有机物及微生物污染，保障晶圆清洗、光刻胶涂布等关键工序的零缺陷要求设备兼容光伏、光电器件等领域，助力企业提升良品率并降低废水排放成本。

二、产品特点

✅双膜联动，高效节能：二级RO+EDI集成工艺，无酸碱再生，能耗较传统离子交换降低30%，产水效率提升50%。

✅​智能物联控制：PLC+在线TOC/电阻率监测模块，实时显示数据波动（±5%以内），支持远程运维与故障预警。

✅​全流程环保认证：零化学废液排放，符合ISO 14001环境管理体系，适配绿色工厂ESG评级需求。

​✅模块化紧凑设计：占地面积减少40%，316L不锈钢/Clean-pvc/PVDF管路及陶氏RO膜组件，设备寿命长达15年。

​✅全球标准兼容：同时满足中国GB/T 11446.1-2013（EW-I）与美国ASTM Type E-1标准。

✅金属离子去除：金属离子去除可达≤20ppt

三、简易流程图（可按需设计）

四、设备工作原理

沃特伊兰电子半导体行业用纯水设备由预处理、反渗透、EDI 深度处理和终端抛光处理四大单元协同运作。预处理单元通过超滤膜与活性炭过滤器，截留微米级颗粒、余氯及有机物，降低原水 SDI 值；反渗透单元利用进口抗污染 RO 膜实现 99.7% 高脱盐率，去除大部分溶解性盐分；EDI 深度处理单元运用电去离子技术进一步提升水质纯度；终端处理单元采用 UV 光氧化与抛光混床树脂，彻底清除残余 TOC 与痕量离子，产出符合 SEMI F57 标准的超纯水。

五、部分案例照片

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六、沃特伊兰优势

远程操作监控智能系统
自动化程度高，DCS中控、手机端上位机等均可远程监控操作，实时查看运行数据。

自动监测报警 
全自动监测，设备发生故障或产水不达标，设备线上报警及线下声光报警，不合格水自动回流至前系统。

售后响应速度快
全国35个售后服务点，7*24小时在线客服1V1服务，2小时出给出解决方案、24小时内到达现场。

三大生产基地
分在深圳、惠州及山东具有生产基地，总面积约12000㎡生产能力200台/月。

专利资质多
拥有40余项发明、实用专利，10项各类资质，同时获得国家高新技术型企业认证。

项目案例多
1500+多项中大型项目案例，10余年环保设备设计、生产、制造经验 助力企业长期节能减排、稳定运行

七、设备报价